徕卡DM500显微镜背散射电子像有较强的成分衬度。但是与二次电子像类似，徕卡DM500显微镜成分衬度常与形貌衬度同时存在，所以要设法加以分离。为此徕卡要充分利用上述特性。令探头有效面积对样品上一点所张的角定义为探测器的立体角，探头中心线与样品表面间夹角定义为探测器的检出角。对于大角度倾转的样品，用小立体角的探头放在接近样品表面的低检出角处，则测得的信号很强，而且徕卡DM500显微镜能灵敏反映样品表面局部形貌的变化，形貌衬度强。如果探头放在高检出角处，由于背离了信号电子发射的峰区，故显微镜形貌衬度就很弱。但研究表明大散射角的电子数目随原子序数而显著变化，显微镜所以高检出角处得到的背散射电子象具有明显的成分衬度。这样就可针对不同要求，利用显微镜样品的倾转台和高、低检出角的探测器，分别获得显微镜成分衬度像和形貌衬度像。
在一定条件下背散射电子像也能显示样品的磁衬度，显微镜主要可反映铁磁体样品磁畴的自感强度。此外，当分析晶体样品时，徕卡DM500显微镜背散射电子象也偶有可能显示晶体衬度，如形成单晶样品的电子通道图样，或多晶样品的取向衬度像，这些对研究晶体的结晶学特性很有用处。
所谓图像的模拟量处理是在探测器到显微镜显像管之间信号转换过程中的模拟量处理。目的是改变图像衬度以适应人们的观察和辨认。常用的图像模拟量处理方法有以下几种。
显微镜差值放大或压直流技术一这是指在压低信号中的直流成分而加大各象元处信号的差值。它适用于信号太小的图像。
徕卡DM500显微镜非线性放大(也称灰度或厂控制)一这种处理目的是显微镜局部放大图像中某电平范围内的信号差值。如果原始衬度给出的图像信号电平覆盖范围很大，而人们感兴趣的只是近黑电平(即强度zui低值)或白电平(强度zui高值)区的一部分信息细节，便可用非线性放大单元来放大感兴趣区的信号以显示出其中更多细节。
以上徕卡DM500显微镜是zui常用的二种衬度调节法。此外还有徕卡DM500显微镜衬度黑白翻转、信号微分和Y调制等图像处理方法可供人们选用。
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更新时间：2017-02-16 
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